光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料，被誉为半导体材料皇冠上的明珠，在半导体、新型显示、印制电路板等泛半导体领域的生产中具有重要作用。随着全球对半导体技术依赖程度的加深，光刻胶的重要性愈加凸显。
会议介绍
组织结构
主办单位：电子化工新材料产业联盟
会议时间
12月12日会议报到
12月13日会议报告、交流，欢迎晚宴
12月14日参观考察
会议地点
会议酒店：无锡太湖皇冠假日酒店（江苏省无锡市滨湖区太湖大道1888号）
会议日程
演讲报告内容
（此顺序不为最终演讲顺序）
1、中国科学院化学研究所、中国科学院大学 杨国强 研究员/原副校长
演讲报告：高分辨光刻胶研发和产业化
2、清华大学国际创新中心集成电路研究平台光刻实验室主任、
IRDS光刻委员会主席 Mark Nessier
演讲报告：Photodecomposable based chemically amplified resist
3、TCL华星光电技术有限公司 谢忠憬 研发总监
演讲主题：光刻胶在新型显示中的应用及技术新突破
4、上海交通大学 姜学松 副院长
演讲报告：光固化微纳米图案化图层
5、上海集成电路材料研究院 刘 兵 资深副总经理/首席技术专家
光刻材料智能设计方法探索
6、清华大学核能与新能源技术研究院 徐 宏 副教授
3nm工艺节点EUV光刻胶/电子束光刻材料的研发及产业化
7、山东大学 康文兵 教授
演讲报告：光刻胶金属化和电子束光刻胶
8、埃檗半导体技术（上海）有限公司 陈政宏 首席技术官
演讲报告：电子束光刻胶的需求指标
9、北京科华微电子材料有限公司 李冰 总经理
演讲报告：集成电路先进制程光刻胶
10、江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司 聂 俊 董事长
演讲报告：DUV光刻胶单体的选择及要求
11、徐州博康信息化学品有限公司 徐 亮 光刻胶事业部副总经理
演讲报告：高分辨浸没式ArF光刻胶的开发和量产难点
12、阜阳欣奕华材料中央研究院 李 琳 常务副院长
演讲报告：新型显示用彩色光刻胶可靠性测试方法
13、无锡华睿芯材科技有限公司 胡 杨 总经理
演讲报告：高分辨率、高刻蚀性电子束光刻胶
14、天津华慧芯科技集团有限公司 陈帅 总经理
演讲报告：光子芯片的制备
15、江苏广信感光材料股份有限公司 朱 民 副董事长
演讲报告：有机硅树脂制备的柔性OLED显示器薄膜封装用墨水
16、江苏博砚电子科技有限公司
演讲报告：新型显示用光刻胶
17、济南圣泉集团股份有限公司
演讲报告：光刻胶用树脂
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其他参会信息
参会说明
1、会员单位参会费用2000元/人，非会员单位参会费用2500元/人。
2、会议统一安排住宿，费用自理。
3、无锡太湖皇冠假日酒店 房价：500元/间/天（单双房同价）。
酒店房源紧张，请尽早报名。
1、无锡苏南硕放机场：距离酒店22.7公里，行车约31分钟。
2、无锡火车站：距离约8.5公里，从酒店驾车约22分钟。
3、无锡新区站：距离约20.2公里，从酒店驾车约25分钟。